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    技術簡介

    PACVD技術
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    PACVD技術簡介：

    PACVD等離子體輔助化學氣相沉積工藝允許在低于200度的溫度條件下沉積類金剛石涂層。它能改善呢關鍵表面的摩擦性能，增強磨損保護。由于CVD和等離子體技術結合生產的高能量。工藝提供良好的附著力、均勻表面和高表面質量。由于沉積溫度低，大量基材如硬化剛、鋁、鈦合金、硬金屬、陶瓷、超合金等均能被涂覆。ADLC涂層已經成功應用于紡織、醫藥、發動機工業、量具、泵、密封、閥門和精密制造等領域。


    PACVD工作原理：


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