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PVD技術簡介:
PVD是英文Physical Vapour Depostion的簡寫,中文物理氣相沉積。它是一種生產金屬基礎的硬質涂層的方法,它借助于生成局部電離金屬蒸汽,與特定氣體反應,并在基材上形成帶有指定成分的薄膜。最常用的方法是濺射和陰極電弧。在濺射中,蒸汽通過有活力的氣體離子轟擊金屬靶材生成。陰極電弧法使用重復真空電弧放電以沖擊金屬靶材和蒸發材料。所有PVD工藝是在高真空條件下沉積到產品上的。
陰極電弧是PVD領域中功能最多的沉積方式之一。采用電弧蒸發使大面積固態靶材高度蒸發離化,在可控的方式下與通入的反應氣體結合,沉積成氮化鈦TiN、碳氮化鈦TiCN、氮鋁化鈦AlTiN、氮化鉻CrN等不同的膜層。
立仁愛邦PVD工藝用于大量五金、塑料、壓鑄模具,刀工具和精密部件的涂層。
PVD工作原理:
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